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武汉光催化反应器CY-GHX-B光化学反应仪的详细资料

武汉光催化反应器CY-GHX-B光化学反应仪技术参数:

型号:CY-GHX-B大容量光化学反应仪

(一)主体部分

1.光源功率可连续调节大小。

2.集成式光源控制器,可供汞灯、氙灯、金卤灯等多种光源使用。

3.汞灯功率调节范围:0~1000W可连续调节。

4.氙灯功率调节范围:0~1000W可连续调节。

5.金卤灯功率调节范围:0~500W可连续调节。

(二)大容量反应部分

1.玻璃反应器皿可以分别选用250ml、500ml、1000ml等(或定做)。

2.大功率强力磁力搅拌器使样品充分混匀受光。

大容量光化学反应仪产品配置:

配置单

数  

控制主机

1

反应暗箱

1

光源控制器

1

双层石英冷阱

1

汞灯(1000W)

1

氙灯(1000W)

1

金卤灯(500W)

1

搅拌装置

1

样品反应瓶

8只(30ml,50ml共8只)

武汉光催化反应器CY-GHX-B光化学反应仪 光化学过程是地球上普遍、量重要的过程之一,绿色植物的光合作用,动物的视觉。涂料与高分子材料的光致变性,以及照相、光刻、有机化学反应的光催化等,无不与光化学过程有关。

  近年来得到广泛重视的同位素与相似元素的光致分离、光控功能体系的合成与应用等,更体现了光化学是一个极活跃的领域。光化学反应与一般热化学反应相比有许多不同之处,主要表现在:加热使分子活化时,体系中分子能量的分布服从玻耳兹曼分布;而分子受到光激活时,原则上可以做到选择性激发。体系中分子能量的分布属于非平衡分布。所以光化学反应仪的途径与产物往往和基态热化学反应不同。

  光化学研究反应机理的常用实验方法,除示踪原子标记法外,在光化学中早采用的猝灭法仍是非常有效的一种方法。这种方法是通过被激发分子所发荧光,被其他分子猝灭的动力学测定来研究光化学反应机理的。它可以用来测定分子处于电子激发态时的酸性、分子双聚化的反应速率和能量的长程传递速率。

  由于吸收给定波长的光子往往是分子中某个基团的性质,所以光化学提供了使分子中某特定位置发生反应的对于那些热化学反应缺乏选择性或反应物可能被破坏的体系更为可贵。光化学反应的另一特点是用光子为试剂。

光化学的初级过程是分子吸收光子使电子激发,分子由基态提升到激发态。分子中的电子状态、振动与转动状态都是量子化的,即相邻状态间的能量变化是不连续的。因此分子激发时的初始状态与终止状态不同时,所要求的光子能量也是不同的,而且要求二者的能量值尽可能匹配。

光物理过程可分为辐射弛豫过程和非辐射弛豫过程。辐射弛豫过程是指将全部或部分多余的能量以辐射能的形式耗散掉,分子回到基态的过程,如发射荧光或磷光;非辐射弛豫过程是指多余的能量全部以热的形式耗散掉,分子回到基态的过程。

  决定一个光化学反应仪的真正途径往往需要建立若干个对应于不同机理的假想模型。找出各模型体系与浓度、光强及其他有关参量间的动力学方程,然后考察实验结果的相符合程度,以决定哪一个是可能的反应途径。一旦被反应物吸收后,不会在体系中留下其他新的杂质,因而可以看成是的试剂

一、必须重视仪器设备的管理和使用

  仪器设备的高负荷使用,往往容易发生意外故障,特别是光学仪器若因维护和使用不当而起雾,就不能发挥仪器的正常作用,而带来工作上的障碍。所以高效的维护管理仪器设备已成为当今企事业单位有效降低成本,提高劳动生产率的有效手段。目前国内企业设备维护管理一般还停留在被动的抢修作业模式,即当仪器设备发生故障,无法继续使用时,维修人员才在最短时间内将故障排除,而当没有发生故障时,维修人员只是空闲,所以这样的管理模式是谈不上效率的,因此,仪器设备的管理也应做好计划,同样设备维护管理也需要把非计划性的工作转化为计划性的工作。如果我们定期的检查保养来减低故障的发生,特别是做好仪器的"三防"工作,避免抢修工作,保证仪器随时能投入正常的作用,这就是一种主动的方式。

  二、注意测绘仪器的防雾

  测绘仪器在使用和贮放中,除了有生霉现象外,往往还有光学零件的起雾,影响仪器的正常使用,故可针对光学信器起雾的主要因素,采取防止措施。

  A、设计使用中的防雾措施

  A1、设计仪器时注意防雾,仪器结构应加强密封性能,保证仪器在高温或低温情况下不降低密封性能,以防止因漏气而引起的水性雾,设计人员应当充分注意选择化学稳定性能好的光学玻璃和材料,为防雾打下良好的基础。

  A2、在制造和维修过程中注意整洁生产,装配和维修的工房须清洁,并严格遵守操作规程,精心擦拭光学零件,严禁用手直接接触和拿取光学零件,夹持光学零件的工具须进行脱脂处理,擦光学零件所用的辅件,如棉光、布块、乙醇、yi醚、碘以及与光学零件接触的有机垫片均须进行严格脱脂,控制含脂量,装光学零件的器皿和盛乙醇、yi醚的瓶子,须经常清洗,保持清洁,这些都是减少油性雾的重要途径。

  A3、减少仪器内部的水蒸气,防止水蒸气在玻璃表面上凝结,尽可能在干燥的条件下进行装配或对装配好的仪器进行干燥处理,如充干燥氮气或空气以及放置干燥剂。仪器在使用和库存中,尽量控制使用环境和库房的相对湿度在6%左右,对于外业仪器在使用中不好控制湿度,用后应放在通风、向阳、干燥的地方,在仪器箱内放入干燥剂,并注意密封和及时更换烘干硅胶干燥剂,在潮湿环境下,使用的内业仪器,如纠正仪、复照仪等,对于可取下来的镜头和精密的光学部件,用后及时取下来故人干燥缸内加以保护,并经常保持仪器清洁,减少结雾核心。

  A4、合理选择和使用油脂,光学仪器上用的各种防尘脂、润油油脂必须是挥发度极低和化学稳定性好的材料,在光学仪器的金属零件上涂油脂时,首先要把零件清洗干净,让汽油挥发完后再涂油脂,并且要涂均匀而不能过多,距光学件10-15mm的范围内,禁止涂润滑油脂和防尘脂,防止油脂扩散引起油性雾。

  A5、提高光学玻璃表面的化学稳定性,利用化学镀膜或真空镀膜方法,在玻璃表面镀一层憎水膜,以提高玻璃的化学稳定性,增强玻璃的抗腐蚀能力,减少起雾,为了减轻水性雾对观察的影响,也可采用亲水材料,镀上一层透明的具有一定的物理性能伪亲水膜,使水雾能全部散开,均匀的分散在膜层中,不影响观察,当大气干燥时,膜层中的水分自然地挥发到大气中。

  A6、除霉,除雾

  光学仪器一旦生霉起雾,就造成了不良的影响,而且给修理工作带来很多麻烦,因此,要以防为主,从仪器设计、制造开始就注意搞好防霉防雾,仪器库存和使用中加强维护保养,是做好防霉防雾工作重要保证。而如果仪器已经生霉起雾,就应及时处理,以免造成更大损失。如果霜雾只在初期阶段,即在仪器生霉起雾后,很短的时间内,只在玻璃表面层附盖着而没有侵蚀玻璃和破坏膜层的时候,可以用混合液擦掉。仪器生雾起雾后应及时处理,否则时间长了,就会腐蚀光学零件的表面和镀膜,甚至于玻璃腐蚀,应及时用一般的混合液或用乙基含氢二氯硅烷溶液擦洗,这种溶液即防雾,又有一定的除雾除霉作用。多倍仪的绿色滤光片大部分是磷酸盐玻璃,很易起雾,而且很难擦净,可以用稀的氨水摈洗,而后用水洗净,再及时用混合液把滤光片表面擦干,但这种玻璃很不稳定,如果不用时,擦净放在干燥皿内,或及时作雾处理,否则还会生霉起雾。对硅酸盐玻璃尽量避免用碱性的物质去擦,因为碱对硅酸盐类有腐蚀作用。如果当光学零件严重生霉起雾,并已腐蚀了玻璃,只有重新更换玻璃或重新把光学零件抛光。总之光学仪器要以防为主,发现霉雾要及时除掉,除霉雾后,要及时采取防雾防霉措施,才能保护仪器使之发挥更大的作用。

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